前ASML研究员带队,帮助中国研发EUV技术(图)

前沿导读 据环球网新闻报道称，由前ASML研究部科学家、中国科学院上海光机所的林楠博士带队，绕过了二氧化碳激光器，使用固态激光器技术成功开发出了LPP-EUV光源，这对于中国发展自主光刻机产品又推进了一大步。 回国发展 林楠博士曾经在荷兰ASML公司担任研究部研发科学家，据林楠博士在观察者网举办的心智对话节目中透露，林博士当初是经过了11轮的面试，才正式进入了ASML公司担任技术工程师。 在面试的过程中，ASML会给相关的面试人员出一些技术上面的难题，林楠博士通过与技术团队的协作，最终解决了公司给出的技术问题，被ASML成功录用。


可以说，林楠博士在光学技术上面拥有着极具专业性的技术能力与行业知识，并且在光刻机设备的核心光源上面，也有着丰富的技术研发经验，是一名货真价实的顶级光学工程师。 在谈论到技术创新的时候，林楠博士对此表示，ASML之所以能够成为目前国际光刻机产业的统治者，是因为其公司人员对于技术创新的执着，并且公司讲究多领域的技术学科大融合，遇到一个技术难题，多个领域的研发人员凑在一起共同解决，这是其成功的基石。 林楠博士还重点强调了只有研发人员是不够的，还需要政府在政策上面的扶持，资金上面的支持，以及一些具有前瞻性眼光的领导。


ASML的首席技术官是马丁·范登布林克，据林博士表示，马丁是一位愿意与研发人员深入探讨技术本身的领导。身为一个大企业的领导，还愿意拿出许多时间来与一线的研发人员进行技术上面的深度交流，这是需要我们中国的企业，乃至整个世界的企业都需要学习的榜样。


2021年，林楠博士从ASML离职后回国，加入到了中国科学院上海光机所担任研究员。 在谈及回国的原因时，林楠博士表示回国是自己私人的原因，ASML有着很不错的工程师文化，但是由于自己和妻子都是独生子女，家里面的父母年龄也比较大了，所以希望离家人近一些，选择了回国。 在林楠博士与ASML领导就回国情况进行交流的过程中，ASML的领导不愿让他离开，还说可以派林楠博士到中国的ASML分公司工作一段时间。但是林楠博士考虑到长期因素，婉言谢绝了领导的好意。 在谈及到ASML的技术设备以及整个的产业链体系能否被中国企业进行复制的话题时，林楠博士对此表示，对于跟他一样的技术人员来说，如果有选择的情况下，技术人员一般都不会去选择做同样的事情，不愿意去模仿已经开发完成的技术产品。


对于技术人员来说，模仿曾经已经开发过的技术产品，这是一个浪费时间的做法。单纯的复制，这并不是什么有挑战性的工作，前人已经把很多事情都做了，你再来重复做同样的事情是没有意义的。 如果你想去做，那么就应该用一种不同的方式，开发一个全新的技术产品。


开发中国技术 林楠博士现在正在做的事情，与他在访谈中所表达的理念一模一样。 根据林楠博士与其研发团队在《激光与光电子学进展》第三期杂志发表的论文内容显示，研发团队提出了一种利用空间束缚激光锡等离子体的宽带极紫外光高效产生方案，该技术方案可以应用于先进半导体的高通量量测。


在开发出全新的技术方案后，林楠团队又基于固态激光器的工作台，将技术方案进行了测试。由固态激光器驱动的LPP-EUV光源所提供的功率，可以用于EUV技术的曝光验证与掩模检查。 不过由于该技术方案尚未成熟，目前只局限于实验室内进行测试，1um的固态激光CE最高可达到3.42%，如果想要达到量产商用的水平，必须要将转化效率提高到5.5%，距离量产商用还需要一段时间。


林楠博士的技术方案，相当于脱离了ASML原来的二氧化碳激光器，重新用一种全新的光源技术进行EUV工艺的替代。 ASML曾经收购了美国Cymer（西盟）公司，获得了EUV技术的驱动光源。从2019年开始，ASML凭借着来自于全球的供应链体系，成为了光刻机产业的霸主。 在美国针对中国芯片产业进行全面压制之后，又对荷兰政府施压，禁止ASML向中国出口EUV光刻机，随后又禁止ASML向中国出口部分先进的DUV光刻机。 这就又回到了林楠博士在访谈中所表述的内容，前人已经把产品技术开发出来了，你再去模仿人家只能是浪费时间。况且ASML在光刻机产品的迭代速度上面也进入了一个快速时期，等你复制出他们的浸润式DUV设备，人家都进入下一个技术时代了。 与其当其他企业的跟随者，还不如直接抱团去开发全新的技术产品。